| 1. Identificação | |||||||||||||||||||
| Tipo de Referência | Tese ou Dissertação (Thesis) | ||||||||||||||||||
| Site | mtc-m16d.sid.inpe.br | ||||||||||||||||||
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S | ||||||||||||||||||
| Identificador | 8JMKD3MGP7W/395N7Q2 | ||||||||||||||||||
| Repositório | sid.inpe.br/mtc-m19/2011/02.07.14.51 | ||||||||||||||||||
| Última Atualização | 2011:06.22.14.49.47 (UTC) administrator | ||||||||||||||||||
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m19/2011/02.07.14.51.50 | ||||||||||||||||||
| Última Atualização dos Metadados | 2018:06.05.04.24.20 (UTC) administrator | ||||||||||||||||||
| Chave Secundária | INPE-16825-TDI/1736 | ||||||||||||||||||
| Chave de Citação | Mello:2011:DeFiFi | ||||||||||||||||||
| Título | Deposição de filmes finos baseada em implantação iônica por imersão em plasma com descarga luminescente e magnetron sputtering  | ||||||||||||||||||
| Título Alternativo | Thin films deposition based on glow discharge plasma immersion ion implantation and magnetron sputtering | ||||||||||||||||||
| Curso | CMS-SPG-INPE-MCT-BR | ||||||||||||||||||
| Ano | 2011 | ||||||||||||||||||
| Data | 2011-03-03 | ||||||||||||||||||
| Data de Acesso | 13 maio 2024 | ||||||||||||||||||
| Tipo da Tese | Tese (Doutorado em Ciência e Tecnologia de Materiais e Sensores) | ||||||||||||||||||
| Tipo Secundário | TDI | ||||||||||||||||||
| Número de Páginas | 143 | ||||||||||||||||||
| Número de Arquivos | 1 | ||||||||||||||||||
| Tamanho | 4594 KiB | ||||||||||||||||||
| 2. Contextualização | |||||||||||||||||||
| Autor | Mello, Carina Barros | ||||||||||||||||||
| Grupo | CMS-SPG-INPE-MCT-BR | ||||||||||||||||||
| Banca | Ueda, Mario (presidente/orientador) Oliveira, Rogério de Moraes Castro, Joaquim José Barroso de Silva Sobrinho, Argemiro Soares da Otani, Choyu | ||||||||||||||||||
| Endereço de e-Mail | carina@plasma.inpe.br; ca_b_mello@yahoo.com | ||||||||||||||||||
| Universidade | Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais | ||||||||||||||||||
| Cidade | São José dos Campos | ||||||||||||||||||
| Histórico (UTC) | 2011-02-07 14:52:45 :: carina@plasma.inpe.br -> yolanda :: 2011-03-02 16:53:37 :: yolanda -> carina@plasma.inpe.br :: 2011-04-12 13:08:41 :: carina@plasma.inpe.br -> yolanda :: 2011-04-26 16:26:59 :: yolanda -> ricardo :: 2011-06-22 14:49:47 :: ricardo -> viveca@sid.inpe.br :: 2011-07-11 20:51:49 :: viveca@sid.inpe.br -> administrator :: -> 2011 2018-06-05 04:24:20 :: administrator -> :: 2011 | ||||||||||||||||||
| 3. Conteúdo e estrutura | |||||||||||||||||||
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz | ||||||||||||||||||
| Estágio do Conteúdo | concluido | ||||||||||||||||||
| Transferível | 1 | ||||||||||||||||||
| Palavras-Chave | implantação iônica por imersão em plasma e deposição deposição por sputtering proteção contra corrosão plasma immersion ion implantation and deposition sputtering deposition corrosion protection | ||||||||||||||||||
| Resumo | Este trabalho teve como objetivo a deposição de filmes finos utilizando um sistema de implantação iônica por imersão em plasma e deposição baseado em deposição de filmes finos por \textit{magnetron sputtering} e implantação iônica tridimensional utilizando plasmas por descarga luminescente. O sistema combina a deposição por \textit{magnetron sputtering} e implantação iônica por imersão em plasma concomitantemente, constituindo-se de um processo híbrido de modificação de superfície, além de permitir que deposição e implantação iônica sejam utilizadas independentemente. O sistema de deposição proposto neste trabalho utiliza alvos metálicos como fonte de deposição dos filmes e gases inertes e/ou reativos e não tóxicos, resultando em um processo limpo, sem liberação de resíduos tóxicos ao meio ambiente. A fonte de plasma para implantação constitui-se de um eletrodo polarizado com tensão dc para acender a descarga luminescente (\textit{glow}). A primeira aplicação do sistema deu-se com a implantação e deposição de filmes de cromo em substratos de aço carbono a fim de aumentar sua resistência à corrosão. Os experimentos mostraram que a implantação iônica aumenta a aderência dos filmes ao substrato ao criar uma camada de mistura atômica na interface. Os ensaios de corrosão mostraram que os filmes criados por implantação iônica e deposição são resistentes à corrosão salina ao apresentar potenciais de corrosão mais nobres e reduzir a densidade de corrente em 98\%. Medidas de ângulo de contato entre a superfície dos filmes e a solução salina mostraram um caráter hidrofóbico dos filmes que os torna menos suscetíveis à corrosão. Os experimentos mostraram que filmes com espessuras de até 1,0 $\mu$m e interfaces de mistura de até 300 nm podem ser produzidos em 1 hora. A utilização da descarga \textit{glow} mostrou-se um parâmetro importante na aderência dos filmes e na extensão do método para deposição em três dimensões. O sistema torna-se mais versátil quando gases reativos são utilizados em conjunto com o argônio para deposição de filmes de compostos metálicos. ABSTRACT: This work aimed the deposition of thin films by using a plasma immersion ion implantation and deposition system, based on magnetron sputtering thin film deposition and tridimensional ion implantation by glow discharge. This system combines the magnetron sputtering deposition with plasma immersion ion implantation concurrently, constituting a hybrid process of surface modification, and allows deposition and ion implantation used independently with each other. The deposition system proposed in this work uses metal targets as the source of film deposition and inert and/or reactive and non-toxic gases, resulting in a clean process with no release of toxic waste to the environment. The plasma source for ion implantation consists of an electrode biased with dc voltage for glow discharge plasma. The first application of the system was the implantation and deposition of chromium films on carbon steel substrates in order to increase its corrosion resistance. The experimental results showed that ion implantation increases the adherence of thin films to the substrate, creating an atomic mixing layer at the interface. Corrosion tests showed that the films produced by ion deposition and implantation are very resistant to saline corrosion, presenting the noblest potentials and reducing the corrosion current density of about 98\%. Measurements of the contact angle between the films surface and saline solution showed the hydrophobic character of the films, turning them less susceptible to corrosion. The experiments showed that films with thicknesses up to 1.0 $\mu$m and mixing interfaces up to 300 nm can be produced in one hour. The use of glow discharge proved to be an important factor in the adherence of the films and for the extension of deposition method in three dimensions. The system becomes more versatile when reactive gases are used in conjunction with argon for film deposition of metal compounds. | ||||||||||||||||||
| Área | ETES | ||||||||||||||||||
| Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção pgr ATUAIS > CMS > Deposição de filmes... | ||||||||||||||||||
| Conteúdo da Pasta doc | acessar | ||||||||||||||||||
| Conteúdo da Pasta source |
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| Conteúdo da Pasta agreement |
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| 4. Condições de acesso e uso | |||||||||||||||||||
| URL dos dados | http://urlib.net/ibi/8JMKD3MGP7W/395N7Q2 | ||||||||||||||||||
| URL dos dados zipados | http://urlib.net/zip/8JMKD3MGP7W/395N7Q2 | ||||||||||||||||||
| Idioma | pt | ||||||||||||||||||
| Arquivo Alvo | publicacao.pdf | ||||||||||||||||||
| Grupo de Usuários | administrator carina@plasma.inpe.br ricardo viveca@sid.inpe.br yolanda.souza@mcti.gov.br | ||||||||||||||||||
| Visibilidade | shown | ||||||||||||||||||
| Detentor da Cópia | SID/SCD | ||||||||||||||||||
| Permissão de Atualização | não transferida | ||||||||||||||||||
| 5. Fontes relacionadas | |||||||||||||||||||
| Repositório Espelho | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02.53 | ||||||||||||||||||
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3F358GL | ||||||||||||||||||
| Lista de Itens Citando | sid.inpe.br/bibdigital/2013/10.14.21.39 2 | ||||||||||||||||||
| Divulgação | BNDEPOSITOLEGAL | ||||||||||||||||||
| Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/mtc-m19@80/2009/08.21.17.02 | ||||||||||||||||||
| 6. Notas | |||||||||||||||||||
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